业界**!日本进口Kanabo拳头产品Savina

　　我公司长期现货供应日本savina minimax擦拭布 Savina Minimax 是日本钟纺株式会社开发的**别的无尘擦拭布

　　高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言，高效擦拭布是必备要素。Savina MX能够轻松满足时代需求，具有出色的功能，足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。 无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备，同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并**多余的水分。Savina MX具备此类擦拭布所需的所有属性，是性能*好的擦拭布之一，专为高科技时代而设计。

　　Savina Minimax是日本KBSEIREN株式会社(原KANEBO)开发的目前***的无尘擦拭布系列产品，吸水吸油性极强，不磨损原件。Savina Minimax广泛用于光学镜头制造，办公器材保养，10级以上的无尘车间净化室，半导体生产线车间等领域。

　　日本KBSEIREN原KANEBO公司生产的HITECLOTH 超细纤维无尘布是由Belima.X织成，其不规则的纤维排布组成适用于各种不规则物体的细微表面处理，不会掉绒毛，超柔软布质及高度抗磨损特性可应用于精密仪器之保养级高收缩、高密度整理产品

　　Savina MX在专门的细针距针织机上编制而成，其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理，就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g，从而确保了在不掉毛的情况下**灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g

　　特　色

　　掉毛量极少。

　　迅速而积极地吸收并留住水分。

　　残留离子和其他物质的溶解率较低。

　　具备**的擦拭布性能(灰尘**量*大，同时不会污染无尘室设备)。

　　用　途

　　光磁盘、硬盘和软盘的生产过程

　　液晶偏转板以及其他物品的生产过程

　　光盘和磁盘的生产过程

　　录像机的生产过程

　　隐形眼镜的生产过程

　　相机装配线

　　印刷电路板的清洁工艺

　　相机镜头镀膜前的清洁工艺

　　药品生产线清洁工艺

　　电影胶片清洁工艺

　　半导体和基础电路的生产过程

　　精密涂层之前工件的清洁过程

　　打印机

　　复印机、复印机

　　数码相机镜头，光学镜头

　　扫描仪

　　光学仪器仪表

　　精密电子产品

　　偏光片

　　LCD,LCM,TFT,FPC

　　手机镜片，玻璃，镜头

　　手表，首饰，

　　办公器材保养